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고급 노드에서 DP 규칙의 복잡성이 증가함에 따라 더 복잡한 DP 제약 조건을 처리하는 것은 물론 오류 시각화 및 디버깅 기능을 향상시켜 설계자가 설계 레이아웃에서 DP 문제를 찾아내고 제거하는 데 도움을 줄 수 있는 EDA 툴이 필요하게 되었습니다. 해당 기술 백서를 통해 이러한 복잡한 오류를 지능적으로 필터링하고, 특정하고, 집중된 범주로 분할하면 설계자가 근본 원인을 신속하고 정확하게 파악하고 수정하실 수 있습니다!


초기에 DP 레이어는 두 패턴 사이의 간격을 위한 상대적으로 단순하고 직접적인 제약이었습니다. 이러한 제약 조건은 설계 규칙에 반영되었고 추가적인 마스크의 요구를 위해 DP엔진이 나타났습니다. DP레이어가 더욱 복잡해짐에 따라 EUV의 결여로 인한 틈을 메우고 TP 설계를 피하려는 시도로 인해 D 규칙도 더욱 복잡해졌습니다. DP 규칙이 일반적으로 서로 다른 마스크를 배치하는 데 관련했다면 이제는 이 제약 조건이 두 번째 또는 세번째 인접 요소로 확장될 수 있습니다. 동일한 마스크에서 형상 사이의 거리가 멀어지면 일부 배열이 허용되지 않거나 동일한 색상을 사용해야 할 수 있습니다. 이와 함께 멀티 패터닝(MP) 규칙 형성의 다른 변화들로 인해 더 복잡한 제약 조건을 처리할 뿐만 아니라 오류의 시각화 및 디버깅 기능을 향상시킬 수 있는 MP EDA(전자 설계 자동화) 툴이 필요하게 되었습니다.

설계자의 생산성 향상을 위한 디버그 개선

유효한 DP 오류를 정확하게 탐지하는 것은 이러한 미세 공정을 지원하는 첫 번째 과제입니다. 설계자가 문제를 효율적으로 이해하고 해결할 수 없다면 문제를 탐지하기 쉽지 않습니다. 기존의 오류 링 및 앵커 경로 시각화 마커는 위에서 언급한 변화가 있는 경우 오류를 효과적으로 주기하거나 설명하지 못합니다. 이러한 오류를 표현하는 방식 또한 진화해야 합니다. 진보된 오류 시각화에서는 다음의 세 가지 주요 문제를 해결해야 합니다.

• 오류에 관여하고 있는 레이어와 그렇지 않은 레이어를 설계자에게 알립니다.
• 비평면 링 또는 경로를 평면 레이아웃에 효과적으로 매핑합니다.
• 평면 레이아웃에 "구멍" 영역이 없는 사이클 오류를 묘사합니다.

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